Egyoldali szupersima lapos tükör szubsztrátum

Egyoldalas, szupersima, síktükör hordozó litográfiához, ostyavizsgálathoz és optikai érzékelőkhöz

Amikor optikai rendszerei tökéletességet követelnek, a mi Egyoldali szupersima lapos tükör szubsztrátum szállít. A félvezető litográfiához, wafer vizsgáló eszközökhöz és nagy érzékenységű érzékelőkhöz tervezett hordozók <0.5 nm felületi érdességet és λ/10 síklapúságot érnek el, így még a legigényesebb környezetekben is torzításmentes teljesítményt biztosítanak. Ultrastabil anyagokból, például olvasztott szilícium-dioxidból vagy Zerodur®-ból készülnek, és a Fortune 500-as gyártók megbíznak bennük a felületi hibák és a hőeltolódás kiküszöbölésében.

Miért válassza tükörfelületeinket?

• Nanométeres pontosság: Saját fejlesztésű polírozással egyenletes <0.5 nm RMS érdesség érhető el, amely ultrasima felületeket biztosít, minimalizálva a fényszórást. Ez a pontosság létfontosságú a félvezető litográfiai és lézerrendszerek csúcskategóriás optikájához, ahol még az apró egyenetlenségek is megzavarhatják a kritikus fényutakat vagy csökkenthetik a képalkotás tisztaságát.
• Hőstabilitás: A közel nulla tágulású anyagok megakadályozzák a torzulást hőmérséklet-ingadozások (-60°C és +300°C között) alatt, megőrzik a méretintegritást extrém környezeti körülmények között. Ideális repülőgépipari érzékelőkhöz, ipari kemencékhez és autóipari optikához, ez a stabilitás megbízható teljesítményt biztosít, akár fagyos hidegnek, akár intenzív hőnek vannak kitéve.
• Egyedi illesztés: A méretek (100 mm–450 mm), bevonatok vagy élkezelések az alkalmazáshoz igazíthatók, a kompakt orvosi oszcilloszkópoktól a nagy ipari tükrökig. Ez a testreszabás lehetővé teszi a zökkenőmentes integrációt egyedi rendszerekbe, optimalizálja a teljesítményt, miközben csökkenti az összeszerelési időt és biztosítja a tökéletes illeszkedést az adott működési igényekhez.
• Garantált megfelelőség: Az ISO 9001/14001 és a SEMI szabványoknak való megfelelés teljes nyomon követhetőség mellett történik, biztosítva a minőséget és a környezeti felelősségvállalást. Ezek a tanúsítványok leegyszerűsítik az integrációt a globális ellátási láncokba, a félvezetőgyártóktól a repülőgépipari projektekig, biztosítva a szabályozások betartását és a termékek következetes megbízhatóságát.

paraméterek

Megjegyzés: A specifikációk testreszabhatók az Ön egyedi igényei szerint.

Főbb alkalmazások

Az EUV litográfiai tükreitől a hiperspektrális érzékelőkig, hordozóink lehetővé teszik:

• ✅ Félvezetőgyártás: Az ASML-stílusú litográfiai eszközökben az átfedési hibák minimalizálása ultraprecíz optikával, biztosítva a nanoskálájú illesztési pontosságot. Ez a pontosság létfontosságú a fejlett chipek gyártásához, ahol még a legkisebb illesztési eltérések is tönkretehetik az áramköri mintákat és csökkenthetik a hozamot nagy volumenű gyártás esetén.
• ✅ Lapkavizsgálat: A λ/10 síkfelület-vizsgáló optika segítségével 20 nm alatti hibákat észlelhet, lehetővé téve a lapkafelületek részletes vizsgálatát. Ezek a nagy pontosságú alkatrészek biztosítják, hogy egyetlen hiba se maradjon észrevétlen, ami kritikus fontosságú a félvezető minőségi szabványainak betartása és a hibás chipek ellátási láncba kerülésének megakadályozása szempontjából.
• ✅ Lézerrendszerek: A nagy teljesítményű ipari lézerek nyalábkoherenciáját stabil optikai alkatrészek biztosítják, amelyek ellenállnak a hőtorzulásnak. Ez a koherencia biztosítja az egyenletes energiaeloszlást, ami elengedhetetlen a precíz vágáshoz, hegesztéshez és anyagmegmunkáláshoz gyártási környezetben.
• ✅ Űroptika: A közel nulla hőtágulású anyagoknak köszönhetően ellenállnak az orbitális hőciklusoknak, miközben megőrzik az illeszkedést. Ez a megbízhatóság biztosítja, hogy a teleszkópok és érzékelők tiszta adatokat rögzítsenek, még akkor is, ha a hőmérséklet drasztikusan ingadozik az űr zord vákuumában, támogatva a folyamatos űrkutatást és -kutatást.

Kritikus környezetekre tervezve

Anyagbeállítások

• ULE®/Zerodur®: Közel nulla hőtágulás méréstechnikai laboratóriumok számára.
• Olvasztott szilícium-dioxid: Ideális UV lézeres alkalmazásokhoz, 99.99%-os tisztasággal.
• Zafír: Rendkívüli karcállóság zord ipari környezetekhez.

Tanúsítványok

• 100%-ban felületi feltérképezés Zygo interferometriával.
• MIL-STD-810G szabvány szerint validált ütés-/rezgésállóság.
• RoHS/REACH-kompatibilis a globális szállításokhoz.

Testreszabás kompromisszumok nélkül

Szükség van egy olyan aljzatra, ami illik a te specifikációk? Amit kínálunk:

1. Átmérő/vastagság beállítása: 5 mm-es lépésekben.

2. Élkezelés: Precíziós élletörés (0.1 mm–0.5 mm).

3. Bevonatok: 248 nm–1550 nm hullámhosszra optimalizált AR/HR rétegek.

4. Sorozatszámozás: Lézergravírozott azonosítók a nyomon követhetőség érdekében.

Iparági vezetők bíznak benne

- Azok Egyoldali szupersima lapos tükör szubsztrátum 22%-kal csökkentette a litográfiai utófeldolgozási arányunkat.”– Top 5 félvezető OEM

„Állandó λ/10 síkfelület több mint 500 egységen keresztül a lapkavizsgáló rendszereinkben.”​​​​​​​– Globális Optikai Beszállító

Rugalmas rendelési lehetőségek

Kis tételek

• Prototípus-támogatás 2 hetes átfutási idővel.
• Vákuumcsomagolás a szennyeződés elkerülése érdekében.

Nagy mennyiségi kedvezmények

• 50+ egység: Elsőbbségi gyártás + 8 hetes szállítás.
• 200+ egység: Elkötelezett minőségbiztosítási csapat + tömeges árak.

FAQ

K: Hogyan biztosítják a <0.5 nm-es felületi érdességet?

V: Zygo profilométereket használunk 173x173 μm-es teljes frekvenciás leképezéshez minden egyes... Egyoldali szupersima lapos tükör szubsztrátum .

K: Kaphatok ESD-álló bevonatokat?

V: Igen – félvezető tisztaszobákhoz egyedi bevonatok állnak rendelkezésre.

K: Mennyi a szállítási idő a 300 mm-es ULE® aljzatok esetében?

A: Standard 6 hét; sürgős igények esetén gyorsított időpontok állnak rendelkezésre.

Kapcsolat

Készen áll az optikai rendszereink fejlesztésére Egyoldali szupersima lapos tükör szubsztrátum? Lépjen kapcsolatba szakértői csapatunkkal még ma, hogy megbeszéljük igényeit és személyre szabott árajánlatot kapjunk.

E-mail: xachaona@163.com​​​​​​​