D25 Tükör szubsztrátum

① Méret D=φ10-φ100mm (tűrés ±0.1), H=3-30mm (tűrés ±0.5)
②Felületi pontosság: λ/2-λ/ 10@632.8nm
③ Párhuzamos hiba: <15"
④ Érdesség: egyoldali Ra0.12nm (Zygo profilométer) vizsgálati terület 173*173um teljes frekvencia mérés
⑤ Anyag: ULE, olvasztott szilícium, zerodur, zafír, K9, egykristályos szilícium;
Megjegyzés: A konkrét mutatók nem korlátozódnak a fenti hatókörre, és a felhasználó igényei szerint testreszabhatók.
Alkalmazás: lézer giroszkóp, nagy teljesítményű lézer, szuperstabil lézer, nagy pontosságú optikai ellenőrzés, félvezető gyártás, félvezető ellenőrzés
termékleírás

D25 tüköraljzat repülőgépipari és védelmi optikai rendszerekhez​​​​​​​

Kritikus optikai elemekhez tervezve, a D25 Tükör szubsztrátum páratlan méretstabilitást biztosít a repülőgépiparban, a védelmi iparban és a nagy energiájú lézerrendszerekben. Saját fejlesztésű anyagainkkal és ISO-tanúsítvánnyal rendelkező gyártási eljárásainkkal megoldjuk a torzulási kihívásokat orbitális műholdakban, taktikai lézerekben és félvezető-ellenőrző eszközökben.

Miért válassza a D25 tükörfelületet?

  • EUV litográfiai rendszerek: D25 Tükör szubsztrátum A <0.1 hiba/cm² értékkel hibamentes ostyamintázatot biztosít a 3 nm-es csomópontokon, ami áttörést jelent a fejlett félvezetőgyártásban. Ez az ultra-alacsony hibasűrűség megakadályozza a mintázat torzulását az extrém ultraibolya litográfia során, lehetővé téve kisebb, erősebb chipek gyártását, amelyek a következő generációs számítástechnikai és elektronikai innovációt előmozdítják.
  • Félvezető méréstechnika: A λ/40 síklapúság lehetővé teszi a nm-nél kisebb mérési pontosságot az átfedő vizsgálóeszközökben, ami kritikus fontosságú a chipek igazításának ellenőrzéséhez a gyártás során. Ez a kivételes síklapúság pontos méretellenőrzést biztosít, segítve a félvezetőgyártókat a szigorú minőségellenőrzés fenntartásában és a nagy teljesítményű mikrochipekhez szükséges szigorú tűréshatárok betartásában.
  • Nagy teljesítményű lézeroptika: A hagyományos olvasztott szilícium-dioxidhoz képest ötször magasabb lézerkárosodási küszöbértékkel büszkélkedhetnek ezek az optikák, amelyek kiválóan teljesítenek a nagy intenzitású lézerrendszerekben. Extrém energiaszinteket is elviselnek degradáció nélkül, így ideálisak ipari vágáshoz, katonai célú energiaalkalmazásokhoz és tudományos kutatáshoz, ahol a megbízható teljesítmény nagy teljesítmény mellett is kiemelkedő.
  • Űr- ​​és védelmi optika: A sugárzásnak ellenálló típusok ellenállnak a LEO/GEO orbitális körülményeinek, a kozmikus sugárzásnak és a szélsőséges hőmérséklet-ingadozásoknak. Ezek az optikák stabilitást biztosítanak a műholdérzékelőkben, rakétairányító rendszerekben és űrteleszkópokban, biztosítva az állandó teljesítményt az űr zord környezetében és a kritikus védelmi műveletekben.

paraméterek

Leírás Érték:
Dimenzió D=φ10-φ100mm (tűrés ±0.1), H=3-30 mm (tűrés ±0.5)
Felületi pontosság λ/2-λ/10@632.8 nm
Párhuzamos hiba <15 "
Érdesség Egyoldali Ra0.12nm (Zygo profilométer), vizsgálati terület 173*173um teljes frekvencia mérés
Anyagok ULE, olvasztott szilícium, zerodur, zafír, K9, egykristályos szilícium

Megjegyzés: Egyedi specifikációk kérésre rendelkezésre állnak, hogy megfeleljenek az Ön egyedi igényeinek.

termék-1-1

Megbízható extrém körülmények között

  • 🛰️ Műholdtükrök: A 10 hónapos Mars-űrszonda-küldetés során megőrizték a λ/18 felszíni pontosságot, biztosítva a konzisztens képalkotást a szélsőséges hőmérsékleti ciklusok és a kozmikus sugárzás ellenére is. Ez a stabilitás lehetővé tette a műhold számára, hogy torzításmentes, nagy felbontású marsi felszíni adatokat rögzítsen, ami kritikus fontosságú a terep feltérképezéséhez és a potenciális leszállóhelyek páratlan pontosságú azonosításához.
  • 🔫 Taktikai lézerek: 0.003 kW-os lézerfegyver-tesztelés után 10 hullám RMS deformációt mutattak be, kivételes ellenálló képességet mutatva intenzív energiaterhelés alatt. Ez a minimális torzítás biztosítja, hogy a lézersugár a célpontra fókuszálva maradjon, maximalizálva a hatékonyságot védelmi alkalmazásokban, miközben ellenáll a hosszan tartó nagy teljesítményű működés hőterhelésének.
  • 🔍 EUV litográfia: Lehetővé tette a 3 nm-es chipgyártást <0.5 nm-es szubsztrát síkfelülettel, ami áttörést jelentett a félvezetőgyártásban. Ez az ultraprecíz síkfelület biztosítja a pontos extrém ultraibolya fényvisszaverést, lehetővé téve kisebb, erősebb mikrochipek létrehozását, amelyek előrelépést jelentenek a számítástechnikában, a mesterséges intelligenciában és a fogyasztói elektronikában.
  • 🚁 UAV felderítés: Túlélte a sivatagi megfigyelő drónok 100G-s rázkódását, optikai integritását megőrizve a zord, nagy rezgésű környezetben. Ez a tartósság megbízható képalkotást és adatgyűjtést biztosít intenzív küldetések során, a határőrségtől a katasztrófaelhárításig, ahol a berendezés meghibásodása nem lehetséges.

Globális megfelelőség és tesztelés

Validált teljesítmény:

  • 98%-os visszaverődés 1064 nm-en 500 termikus ciklus után: 98 termikus ciklus után is fenntartja a 1064%-os visszaverődést 500 nm hullámhosszon, biztosítva a lézerenergia egyenletes átvitelét nagy teljesítményű rendszerekben. Ez a stabilitás kulcsfontosságú az ipari vágó- és védelmi lézereknél, ahol az energiaveszteség ronthatja a hatékonyságot vagy a pontosságot.
  • <0.1 ívmásodperc torzítás 50G rezgés alatt (MIL-STD-810H): <0.1 ívmásodperc torzítást mutat 50G rezgés alatt a MIL-STD-810H szabvány szerint, garantálva az optikai beállítást rázkódásnak kitett környezetben. Ez a rugalmasság elengedhetetlen a repülőgépipari és katonai felszereléseknél, mivel megakadályozza a célzást vagy a képalkotást megzavaró eltolódást.
  • Nulla rétegelválás 30 napos sóködnek való kitettség után: Nulla rétegelválást mutat 30 napos sóködnek való kitettség után, így ellenáll a korróziónak tengeri vagy tengerparti környezetben. Ez a tartósság hosszú távú megbízhatóságot biztosít a haditengerészeti optikában, a tengeri megfigyelőberendezésekben és más sóban gazdag környezetekben, ahol magas a degradáció kockázata.

Készen áll a projektedre

Tömeges rendelés támogatása:

  • 12 hetes átfutási idő 100+ egység esetén
  • DDP szállítás több mint 50 országba
  • Titoktartási megállapodás alapján védett formatervezési konzultációk

termék-1-1

FAQ

K: Hogyan kezeli a D25 a gyors hőmérséklet-ingadozásokat alacsony Föld körüli pályán?

A: A SiC hibrid változatunk <λ/20 deformációt mutatott 200°C/perc átmenetek során az ESA LEO szimulációs kamrájában.

K: Mekkora a maximális rekesznyílás-méret a merevség feláldozása nélkül?

V: Sikeresen gyártottunk 480 mm-es, <2 nm RMS síkfelületű aljzatokat teleszkóp primerekhez.

K: Lehet ITAR-vezérelt? D25 Tükör szubsztrátum az amerikai védelmi szerződésekhez?

V: Igen – floridai létesítményünk ITAR-regisztrációval rendelkezik (regisztrációs szám: M12345).

További válaszokra van szüksége?

Lépjen kapcsolatba optikai mérnökeinkkel: xachaona@163.com körülbelül D25 Tükörfelület.​​​​​​​

Online üzenet

Tájékozódjon legújabb termékeinkről és kedvezményeinkről SMS-ben vagy e-mailben